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        當(dāng)前位置：
        
        
        高中物理

        
            /
            單選題
        
    
    

    
    
        
    
            
    
                
      
                    
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    1. 
    
        
            (2021高二上·東海期中)
        
    
    華為手機麒麟9000型芯片是5nm制作工藝，光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一。光刻機通過一系列的光源能量，將光束透射過畫著線路圖的掩模，用透鏡將線路圖成比例縮小后映射到涂有化學(xué)層的硅片上，受到光線照射的部分，可以被沖洗掉，在硅片上就得到了掩膜上的電路圖。芯片的制作過程需要用較大能量光子的光照射，應(yīng)選用的光源是（   ）  
      


      

                                
                                

      
    
    A . 波長長的光源
    
    B . 頻率大的光源
    
    C . 強度小的光源
    
    D . 強度大的光源
    

      




                            
      
                        
      
                        
                    
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